Runway是一款由美國創業公司RunwayML開發的人工智能創作平臺。該平臺的目的是讓用戶可以在沒有任何編程經驗的情況下，輕松地使用機器學習技術進行創作和設計。Runway提供了一系列易于使用的工具和模型，使得用戶可以通過簡單的拖拽和點擊操作，就能夠訓練自己的模型并生成高質量的藝術作品。